Facebook
Instagram
Youtube
O uczelni
Statut Uczelni
Strategia
Władze uczelni
Senat
Rada Uczelni
Samorząd Studencki
Wybory
Struktura
Instytuty
Nauk Społecznych
Inżynieryjno-Techniczny
Pedagogiki i Nauk o Zdrowiu
Centrum Technologii
Centrum Informatyczne
Rady Programowe i ECTS
Dziekanat
Przeciwdziałanie patologii
Praktyki antykorupcyjne
Pracownicy
Pracownicy administracyjni
Pracownicy dydaktyczni
Zasłużony dla ANS w Wałczu
Jubileusze
Studenci
Dziekanat
ndziekanat
Zasady studiowania
Regulaminy i programy
Sylabusy
Sylabusy – Przedmioty Ogólnouczelniane
Sylabusy Instytutu Nauk Inżynieryjno-Technicznych
Sylabusy Instytutu Nauk Społecznych
Sylabusy Instytutu Pedagogiki i Nauk o Zdrowiu
Organizacja roku akademickiego
Informacje dla I roku
Praktyki
Informacje ogólne
Dokumenty
Studia I stopnia
Studia II stopnia
Miejsca praktyk
Koła naukowe
Egzaminy dyplomowe
Akademik
Stypendia i wsparcie
Nagrody Rektora
Legia Akademicka
Kandydaci
Harmonogram rekrutacji
Kierunki studiów
Dokumenty i opłaty
Zapisz się na studia
Erasmus+
Aktualności programu Erasmus+
Information for incoming students
Erasmus dla studentów
Erasmus dla pracowników
O programie Erasmus
Uczelnie partnerskie
Deklaracja Polityki Erasmusa
Nauka
Granty i projekty
Konferencje i publikacje
Jakość kształcenia
Biblioteka
Informacje
Zasady korzystania
Katalog elektroniczny
Biblioteki elektroniczne
Osoby z niepełnosprawnością
Aktualności
O Biurze
Deklaracja dostępności
Biuro Karier
Szkolenia i warsztaty
Oferty pracy Biura Karier
Monitorowanie ścieżek kariery
Aktualności
Portal
3.4
C
Wałcz
Kontakt
Facebook
Instagram
Youtube
O uczelni
Statut Uczelni
Strategia
Władze uczelni
Senat
Rada Uczelni
Samorząd Studencki
Wybory
Struktura
Instytuty
Nauk Społecznych
Inżynieryjno-Techniczny
Pedagogiki i Nauk o Zdrowiu
Centrum Technologii
Centrum Informatyczne
Rady Programowe i ECTS
Dziekanat
Przeciwdziałanie patologii
Praktyki antykorupcyjne
Pracownicy
Pracownicy administracyjni
Pracownicy dydaktyczni
Zasłużony dla ANS w Wałczu
Jubileusze
Studenci
Dziekanat
ndziekanat
Zasady studiowania
Regulaminy i programy
Sylabusy
Sylabusy – Przedmioty Ogólnouczelniane
Sylabusy Instytutu Nauk Inżynieryjno-Technicznych
Sylabusy Instytutu Nauk Społecznych
Sylabusy Instytutu Pedagogiki i Nauk o Zdrowiu
Organizacja roku akademickiego
Informacje dla I roku
Praktyki
Informacje ogólne
Dokumenty
Studia I stopnia
Studia II stopnia
Miejsca praktyk
Koła naukowe
Egzaminy dyplomowe
Akademik
Stypendia i wsparcie
Nagrody Rektora
Legia Akademicka
Kandydaci
Harmonogram rekrutacji
Kierunki studiów
Dokumenty i opłaty
Zapisz się na studia
Erasmus+
Aktualności programu Erasmus+
Information for incoming students
Erasmus dla studentów
Erasmus dla pracowników
O programie Erasmus
Uczelnie partnerskie
Deklaracja Polityki Erasmusa
Nauka
Granty i projekty
Konferencje i publikacje
Jakość kształcenia
Biblioteka
Informacje
Zasady korzystania
Katalog elektroniczny
Biblioteki elektroniczne
Osoby z niepełnosprawnością
Aktualności
O Biurze
Deklaracja dostępności
Biuro Karier
Szkolenia i warsztaty
Oferty pracy Biura Karier
Monitorowanie ścieżek kariery
Aktualności
Portal
Chicago
Sort by:
Najnowsze
Najstarsze posty
Zmieniona data
Alfabetyczne a -> z
Specialties
Administracja
Bezpieczeństwo
Finanse i rachunkowość
Informatyka
Pedagogika
Przemysł 4.0
Wychowanie fizyczne
Zarządzanie
Zarządzanie i inżynieria produkcji
Locations
Chicago
California
Florida
Houston
Illinois
Los Angeles
Miami
New York
Seattle
Texas
United States
Washington
Genders
Female
Male
Deep Brook
Finanse i rachunkowość
Chicago
95
Calla Ami
Administracja
Chicago
95
Melvin Lyle
Bezpieczeństwo
Chicago
110
Mathew Brenden
Zarządzanie
Chicago
110
Gale Rashmi
Zarządzanie i inżynieria produkcji
Chicago
120
Katelyn Griffin
Przemysł 4.0
Chicago
105
Irving Campbell
Informatyka
Chicago
95
Ganesh Brett
Pedagogika
Chicago
105
Simon Woo
Wychowanie fizyczne
Chicago
120
Jacob Dixon
Chicago
105
Ułatwienia dostępu
Odwróć kolory
Monochromatyczny
Ciemny kontrast
Jasny kontrast
Niskie nasycenie
Wysokie nasycenie
Zaznacz linki
Zaznacz nagłówki
Czytnik ekranu
Tryb czytania
Skalowanie treści
100
%
Czcionka
100
%
Wysokość linii
100
%
Odstęp liter
100
%
